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技術天地

芯片含氟廢水治理的痛點有哪些?除氟劑幫你解決

點擊數:792025-07-28 17:23:52

芯片行業含氟廢水的治理難點主要體現在以下幾個方面:

1. 污染物高難度絡合:氟離子容易與銅、鎳等重金屬形成穩定的絡合物,傳統石灰沉淀法僅能將氟濃度降至8-35mg/L,無法滿足長三角等地≤5mg/L的嚴苛地方標準。例如,某晶圓廠曾因硝酸-銅絡合物導致沉淀工藝失效,氟殘留超標3倍以上。

2. 膜處理系統易損毀:反滲透(RO)技術雖能深度除氟,但廢水中的硅酸鹽和氟化鈣易在膜表面結垢,導致膜通量衰減、壽命縮短。半導體廢水要求氟濃度≤0.1mg/L,常規膜系統運行不足半年即需更換,維護成本激增。

3. 水質波動精準調控難:芯片廠不同生產線排水時段與濃度差異大,人工調節藥劑投加量滯后性強。蘇州某廠因pH值失控導致沉淀池污泥反復板結,日均停產檢修達3次。

針對這些難點,環瑞除氟劑通過“強吸附+離子交換”雙機理攻克行業痛點:

- 強吸附破絡合:納米鋁簇靶向切斷氟-重金屬/硅的化學鍵,釋放游離氟離子,破解絡合態氟去除難題。

-離子交換精捕獲:特異性交換基團在萬億級氯離子干擾中精準吸附氟離子,出水氟濃度穩定≤0.5mg/L,半導體場景可達0.1mg/L。

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配套GMS-F6深度超純型除氟劑,專為低濃度氟化物(≤20mg/L)設計,10分鐘內去除率超98%,且無游離鋁離子,避免對生化系統的二次抑制。

實戰效能與經濟性驗證方面,某半導體廠采用環瑞方案,將含氟150mg/L、硼42mg/L的蝕刻廢水處理后,氟濃度降至0.5mg/L以下,RO膜壽命延長至3年,污泥量減少55%。針對3800mg/L超高濃度光伏酸洗廢水,通過兩級處理實現氟殘留0.8mg/L,噸水成本僅傳統工藝的30%。

未來展望方面,隨著2025年《化工園區PFAS限值標準》實施,環瑞技術將推動三重變革:水資源回用率提升、污泥資源化、智能集成。

環瑞除氟劑正以分子級凈化守護制造與生態的平衡——讓每一滴水的重生,都成為技術賦能綠色制造的精密注腳。

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